Präzisions-PWM-Elektrokühlmittelpumpe OWP-BL43-450T: Zuverlässige Wärmeableitung für Halbleiterwafer-Fertigungsanlagen

OWP-BL43-450T: Zuverlässige Wärmeverteilung für Halbleiter-Wafer-Fertigungsanlagen

Die elektrische Kühlmittelpumpe OWP-BL43-450T ist eine leistungsstarke thermische Managementlösung, die für die Wärmeableitung in Halbleiterwaferherstellungsgeräten entwickelt wurde.Gebaut mit Permanentmagneten und Bürstenlostechnologie, PWM-Geschwindigkeitsregelung und IP68 vollständig versiegelter Schutz,Diese Pumpe sorgt für eine stabile und kontaminationsfreie Flüssigkeitszirkulation, um die Anforderungen an die hochpräzise Kühlung von Halbleiterherstellungsprozessen zu erfüllen.. Sein kompaktes Design, sein geräuscharmer Betrieb und seine robuste Fehlerverträglichkeit machen es ideal für die sauberen, zuverlässigen Umgebungen von Waferfabriken,Gewährleistung der einheitlichen Leistung der Ausrüstung und Aufrechterhaltung der Qualität der Waferproduktion.

Technische Spezifikation

Kopfströmungskurve

Geschwindigkeitskontrolle und Fehlerrückmeldung

Kerntechnische Vorteile

• Konstruktion des geschlossenen Triebwerks: Der präzisionsbearbeitete geschlossene Drehscheibe minimiert interne Turbulenzen und Leckagen.Erreichung einer hohen Pumpeffizienz bei gleichzeitiger Aufrechterhaltung des Betriebslärms von ≤ 60 dB, was für die Aufrechterhaltung stabiler Bedingungen in geräuschempfindlichen Halbleiterreinräumen von entscheidender Bedeutung ist.
• Dauermagneten und Bürstenlose Bauweise: Kombiniert kompakten Fußabdruck mit geringem Stromverbrauch, passt nahtlos in platzbeschränkte Waferherstellungsanlagen und reduziert den Energieverbrauch in rund um die Uhr arbeitenden Produktionsumgebungen.
• Ultra-Langlebigkeit-Wellenbaugruppe: Verwendet hochverschleißfähige Reibungspaarmaterialien für das Schachtensystem, unterstützt über 20.000 Stunden kontinuierlichen Betrieb, um sich an die langen Wartungszyklen von Halbleitergeräten anzupassen.
• Zentrifugal- und abgeschirmte Struktur: Isoliert den Motor vom Kühlmedium, um Partikelkontamination und Flüssigkeitsleckagen zu verhindern,Schutz empfindlicher Waferverarbeitungsbestandteile vor Beschädigungen und Gewährleistung der Einhaltung der Standards für Reinräume.
• PWM-Schaltzyklusgeschwindigkeitsregelung: Ermöglicht eine präzise Einstellung der Durchflussrate über PWM-Signale,die dynamische Abgleichung der Kühlkapazität mit der Wärmeleistung der Waferherstellungsprozesse erlaubt, um die thermische Stabilität während der kritischen Fertigungsstufen zu optimieren.
• Umfassender Schutz und Rückkopplung von Fehlern: Ausgestattet mit Umkehrpolarität, Überspannung, Überstrom, Trockenlauf und Übertemperatur-Schutz sowie Hoch-/Niedrig-Fehler-Feedback,Sicherstellung der Systemsicherheit und proaktive Wartung zur Minimierung von Ausfallzeiten.

Anwendung in der Kühlung von Geräten zur Herstellung von Halbleiterwafern

Die elektrische Kühlmittelpumpe OWP-BL43-450T ist speziell für die Wärmeableitung in Halbleiterwaferherstellungsanlagen optimiert.wenn eine präzise Temperaturkontrolle unmittelbar Auswirkungen auf die Leistung und den Ausstoß der Wafer hatDer Nenndurchfluss von 6000 L/h (bei 8 Meter Kopf) und der maximale Durchfluss von 9000 L/h sorgen für eine effiziente Zirkulation kompatibler Kühlmedien, einschließlich Glykol-Wasser-Mischungen,und elektronische fluorierte Lösungen, um die Hitze aus der Lithographie zu lösenDer 24VDC-Breitspannungseingang (18-32VDC) passt sich mit Halbleiter-Werkstromanlagen an.Während der 38 mm große Durchmesser des Ausgangs eine hohe Flüssigkeitsübertragung für einen effektiven Wärmeaustausch ermöglichtDie PWM-Geschwindigkeitsregelung ermöglicht es der Pumpe, sich während der Waferverarbeitung an unterschiedliche thermische Belastungen anzupassen und gleichbleibende Temperaturen innerhalb enger Toleranzen zu halten.Die IP68-Wasserdichte und der Temperaturbereich von -40°C bis 85°C sorgen für Zuverlässigkeit in kontrollierten Fabrikumgebungen, während Fehlerrückkopplungssignale die Integration in Fabriküberwachungssysteme ermöglichen.Der OWP-BL43-450T unterstützt die anspruchsvollen thermischen Anforderungen von Halbleiterwafer-Fertigungsanlagen, was zu einer stabilen Produktion und einer hochwertigen Waferproduktion beiträgt.

Abmessungszeichnungen